お知らせ
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製造現場、研究開発現場の
さまざまな用途に対応します
Top 3 Functions
1
金型、工具、部品の補修、追加成形
数ミクロン～数ミリの摩耗や打痕、欠損、クラックなどを素早く補修します。また金型の追加成形も可能です。
- 金型・工具の補修
- 繰り返し使用により摩耗したエッジや欠損箇所を肉盛り補修。
- 機械部品の補修
- シャフト、シリンダー、ドリルビットなどの摩耗箇所を補修。
- 金型の追加成形
- 設計変更の場合には、金型全体の作り直しの代わりに、必要部分だけを追加成形します。
2
表面改質、機能性向上
表面改質、機能性向上
（コーティング）
工具や部品の表面に、薄層硬質皮膜など、母材とは異なる金属皮膜を形成します。
- 耐摩耗性の向上
- 工業用刃物、シャフト、油圧ポンプ部品などの表面に、硬質層をコーティングし、長寿命化。
- 耐食性・耐酸化性の向上
- バルブ、タービンブレードなどに耐食層をコーティング、過酷な環境下での腐食を防止。
- 高温特性の向上
- タービンブレードや燃焼部品などに特殊合金をコーティング、部品の性能を維持。
3
異種金属グラデーション肉盛り造形
複数の材料粉末を供給しながらレーザ加工。
異種金属のグラデーションを持たせた造形（傾斜組成積層造形）が可能。
Proprietary Technology
国際特許取得の直噴型マルチビーム採用
低入熱・高精度加工を実現
６本のレーザを非球面レンズで集光し照射するマルチビームを搭載。
従来型の DED で問題となっていた熱ひずみや原料となる金属粉の飛散を抑え、高精度の加工を実現しました。
に搭載！
直噴型マルチビーム DED
加工ヘッドの中心から金属材料を噴射し、周囲から複数のレーザ光で、加熱・溶融します。
- 熱ひずみを軽減
- 原料粉末を直接過熱するので、
基材への熱影響を最小限にとどめます。
- 原料粉末の使用効率アップ
- 中心から噴射した原料粉末を
直接、加熱・溶融・凝固。
粉末の飛散や無駄な溶融を抑えます。
- 高精度加工
- 原料粉末が加工部位に垂直に供給されるので、
高精度な加工が可能です。
従来型 DED
サイドから原料粉末が噴射供給される一般的な DED では、原料の飛散や熱ひずみが発生します。
- 熱影響
- 高出力のレーザで
溶融池を形成するため、
基材への熱影響が大きくなります。
- 効率
- レーザ光の周囲から
溶融池に原料粉末を投入するので
原料の飛散が多くなります。
加工性能の特長
Processing Performance
1超高速積層
1 秒間 1,000ｍｍ超の走査速度を実現（集光径 0.5ｍｍ）。
メッキのような表面コーティングとして用いることができます。
2細密／薄層コーティング
最小径 0.3ｍｍ、最小膜厚 50μm の被膜形成が可能です。
3低ひずみ
6 本のレーザ光で中心に噴射された原料粉末を直接加熱するので、基材への熱影響を最小限にとどめます。
4異種材料のグラデーション造形
複数の原料粉末の混合比率を変化させながら積層造形できます。
例えば基材に近い部分は高靭性の材料を使用。徐々に混合比率を変化させ、表面には高硬度の被膜を形成する「傾斜組成積層造形」も可能です。
Spec
製品仕様
（カスタマイズ可能）
| 項目型式名 | ALP-IM 300 | ALP-IM 600 | ALP-IM 1000 | ALP-IM B300 | ALP-IM B600 |
|---|---|---|---|---|---|
| 基本仕様 | |||||
| 装置サイズ | 1845mm(W)×1710mm(D)×2050mm(H) | ||||
| 搭載軸数 | 5軸 [X,Y,Z ＋ A(傾斜軸) ＋ C(ロータリ軸)] | ||||
| 軸動作モード | 位置制御 | ||||
| 軸運転モード | JOG運転 / インチング運転 / 独立位置決め運転 | ||||
| 補間軸数 | 最大5軸 補間制御 | ||||
| プログラム運転 | 自動運転 / DNC運転対応 | ||||
| 運転言語 | Gコード | ||||
| 軸ストローク | X：250mm Y：250mm Z：150mm A：±90° C：∞ | ||||
| 最大ワークサイズ | X：200mm Y：200mm Z：120mm | ||||
| 最大ワーク重量 | 10kg | ||||
| 装置重量 | 2000kg | ||||
| 供給電圧 | 三相 200V | ||||
| レーザ発振器+加工ヘッド | |||||
| 発振動作 | CW | ||||
| 定格出力 | 300W | 600W | 1000W | 300W | 600W |
| レーザ種類(波長) | 近赤外(975nm) | 近赤外(915nm) | 近赤外(975nm) | 青色(445nm) | 青色(445nm) |
| 冷却方式 | 水冷 | ||||
| レーザスポットサイズ | 0.3 or 0.5mm | 0.5mm | 0.5mm | 0.3 or 0.5mm | 0.3 or 0.5mm |
| 焦点距離(ノズル端より) | 5mm ± 0.5mm | ||||
| 最小ビート幅 | 0.3 or 0.5mm | 0.5mm | 0.5mm | 0.3 or 0.5mm | 0.3 or 0.5mm |
| 最小被膜厚さ | 0.05mm | ||||
| 対応原料 | Ni合金 / Co合金 / 粉末ハイス / ステンレス / WC-Co / Ti合金 ...等 | ||||
Catalog